経営コンサルティング、これでバッチリ！？SOS？

　Intelが45nm世代の量産用プロセス技術の詳細をIEDM 2007で発表した(講演番号10.2)。これまでにIntelは45nmプロセスの概要を報道関係者向けに何度か発表してきたものの、競合他社を含めた半導体メーカーのエンジニアに対してプロセスの詳細を公表したことはなかった。

　45nmプロセスにIntelが言及した時期は早く、かなり以前に遡る。2003年11月には日本で開催された報道関係者向け発表会で、将来の45nmプロセスに触れている。このときすでに、「トランジスタのゲート絶縁膜に高誘電率膜を採用し、ゲート電極に金属材料を採用してリーク電流を低減する(High-k/Metal gate)」という45nmプロセスに対するIntelの基本的な方針が示されていた。

　その後、2006年1月末には45nmプロセスによる153Mbit SRAMの試作成功を報道関係者向けに発表した。ただしこのときは、High-k/Metal gateについては触れていない。

　半導体メーカーのエンジニアを驚かせたのは、2007年1月末にIntelが次期マイクロプロセッサ「Penryn(ペンリン)」(コードネーム)の試作に成功したと報道機関向けに発表したときである...

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（引用 yahooニュース）

こんなニュースもあったんですね。
毎日色んなニュースがありますけど、
今私が一番注目しているのは、
→ネットワークビジネスのニュース
これはちょっと凄いですね。
さてニュースを続けます。

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